Halbleiter – hauptsächlich aus Silizium – spielen eine wichtige Rolle in modernen Elektronik- und Kommunikationssystemen und werden für die Produktion integrierter Schaltkreise, wie etwa Mikroprozessoren, System-on-Chips (SOC) und verschiedenen Arbeitsspeichern (RAM), eingesetzt.
Die Halbleiterfertigung erfordert ein besonders hohes Niveau von Produktreinheit. Diese Qualität kann nur erreicht werden, wenn der Fertigungsprozess und dessen Umgebung frei von Verunreinigungen gehalten werden.
Die Verunreinigung durch Feuchtigkeit ist bei der Halbleiterfertigung ein Hauptgrund für Defekte und beeinträchtigt daher die Ausbeute beträchtlich. Die Überwachung und Kontrolle des Feuchtigkeitsgehalts im bei der Waferherstellung und in Lagerbereichen eingesetzten hochreinen Gas sowie in der Fertigung selbst ist wesentlich, um die Qualität aufrechtzuerhalten und die Ausbeute zu maximieren. Zusätzlich sind Sauerstoffmessungen während Rapid-Thermal-Processing-Phasen kritisch für die Produktreinheit.
Wir bieten eine Vielzahl hochpräziser Verfahren zur Messung von Feuchtigkeit und Sauerstoff von hohen Konzentrationen bis zu Spurenmengen an. Viele Fertigungsanwendungen setzen auf Spurenmessungen von Wasserdampf oder Sauerstoff, um die Prozessqualität sicherzustellen. Unsere Messgerätelösungen erlauben die kontinuierliche Überwachung der Prozessumgebung.